فراغ الكروم تصفيح شعاع ترسيب تصفيح

فراغ الكروم تصفيح شعاع ترسيب تصفيح

 

طلاء لفة الفراغ

 

طلاء لفة الفراغ هو تقنية طلاء مستمرة على ركائز مرنة عن طريق ترسيب البخار الفيزيائي لتحقيق بعض الخصائص الوظيفية والزخرفية للركائز المرنة.

 

 

 

التالي هو ترسيب البخار الكيميائي (CVD). يجعل الفيلم عن طريق تفاعل كيميائي. المبدأ هو أنه عند درجة حرارة معينة ، يتم تمرير غاز التفاعل المحتوي على مادة تشكيل الفيلم إلى الركيزة وامتصاصه ، ويتم إنشاء تفاعل كيميائي على الركيزة لتشكيل نواة ، ثم يتم فصل منتج التفاعل عن السطح من الركيزة بشكل مستمر. انتشار لتشكيل غشاء رقيق.

 

تصفيح ترسيب الشعاع ، وهي تقنية معالجة مركّبة للسطح الأيوني تجمع بين تقنية غرس الأيونات وتقنية طلاء ترسيب البخار ، هي تقنية تستخدم الجسيمات المتأينة كمواد تبخير لتشكيل أغشية رقيقة بخصائص جيدة في درجات حرارة منخفضة نسبيًا للركيزة. .

ثلاث طرق للطلاء بالكروم بالفراغ

تبخر الفراغ

 

المبدأ هو استخدام المبخر لتسخين المادة المتبخرة لتبخيرها أو تساميها تحت ظروف الفراغ ، ويتم إطلاق تيار الأيونات المتبخرة مباشرة على الركيزة ، ويتم ترسيب الفيلم الصلب على الركيزة.

 

طلاء الاخرق

 

طلاء الرش هو توصيل جهد عالي 2000 فولت بالكاثود تحت ظروف الفراغ لتحفيز تفريغ الوهج. تصطدم أيونات الأرجون ذات الشحنة الإيجابية بالكاثود لإخراج الذرات. تترسب الذرات المتناثرة على الركيزة من خلال جو خامل لتشكيل طبقة غشاء. .

 

طلاء أيون

 

أي ، طلاء أيون الفراغ الذي أدخلته الشركة المصنعة لمضخة الفراغ اللولبية الجافة. تم تطويره على أساس تقنيتي طلاء الفراغ المذكورين أعلاه ، لذلك فهو يتميز بخصائص العملية لكليهما. في ظل ظروف الفراغ ، يتأين غاز العمل أو المادة المتبخرة (مادة الفيلم) جزئيًا عن طريق تفريغ الغاز ، ويتم ترسيب المادة المتبخرة أو المتفاعلة على سطح الركيزة تحت القصف الأيوني. أثناء تشكيل الفيلم ، يتم قصف الركيزة دائمًا بجزيئات عالية الطاقة وهي نظيفة جدًا.

www.superbheater.com